Samsung'dan dev sıçrama: 10nm altı DRAM ve yeni nesil bellekler geliyor

DRAM yoğunluğunu ciddi artırıyor

Samsung Electronics, DRAM üretiminde uzun süredir aşılamayan 10nm sınırını geride bırakarak önemli bir eşiği geçti. Şirketin geliştirdiği yeni "10a" üretim süreci, yaklaşık 9.5–9.7nm seviyelerine inerek sektörde bir ilk olma özelliği taşıyor.

Bu ilerlemenin arkasında iki temel yenilik bulunuyor: 4F kare hücre yapısı ve VCT (Vertical Channel Transistor) üretim tekniği. Mevcut DRAM'lerde kullanılan 6F dikdörtgen yapı yerine 4F kare tasarıma geçilmesi, çip başına hücre yoğunluğunu yüzde 30 ila 50 oranında artırabiliyor. Bu da daha yüksek kapasite ve daha düşük güç tüketimi anlamına geliyor.

Ayrıca yeni nesil belleklerde silikon yerine IGZO (Indium Gallium Zinc Oxide) gibi gelişmiş malzemelerin kullanılması planlanıyor. Bu sayede daralan hücrelerde veri sızıntısı azaltılarak veri tutarlılığı artırılıyor. Peki yeni nesil bellekler ne zaman geliyor? Samsung'un bu teknolojiyi 2028 yılında seri üretime alması beklenirken, ilerleyen yıllarda 3D DRAM mimarisine geçiş yapılması da planlanıyor.

Ayrıca Bkz.Intel, ekran kartı planlarını değiştirdi: İşte yeni yol haritası

Bellek tarafındaki bu sıçrama, özellikle yapay zeka ve veri merkezi uygulamalarında performansı doğrudan etkileyecek kritik bir adım olacak. Ayrıca artan verimlilik ve performans pazardaki tedarik sorunlarını da hafifletebilir.